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          光刻膠配方
          發布時間: 2019-5-29 10:07:13


          光刻膠介紹



          光刻膠(又稱光致抗蝕劑),是指通過紫外光、準分子激光、電子束、離子束、x射線等光源的照射或輻射,其溶解度發生變化的耐蝕刻材料。光刻膠具有光化學敏感性,其經過曝光、顯影、刻蝕等工藝,可以將設計好的微細圖形從掩膜版轉移到待加工基片。因此光刻膠微細加工技術中的關鍵性化工材料,被廣泛應用于光電信息產業的微細圖形線路的加工制作。生產光刻膠的原料包括光引發劑(包括光增感劑、光致產酸劑)、光刻膠樹脂、單體和其他助劑等。

          光刻膠配方分析方法




          光刻膠的發展前景



          我國光刻膠市場規模2015年已達51.7億元,同比增長11%,高于國際市場增速,但全球占比仍不足15%,發展空間巨大。2015年我國光刻膠產量為9.75萬噸,而需求量為10.12萬噸,依照需求量及產量增速預計,未來仍將保持供不應求的局面。據智研咨詢估計,得益于我國平面顯示和半導體產業的發展,我國光刻膠市場需求,在2022年可能突破27.2萬噸。在光刻膠生產種類上,我國光刻膠廠商主要生產PCB光刻膠,而LCD光刻膠和半導體光刻膠生產規模較小,相關光刻膠主要依賴進口。放眼國際市場,光刻膠也主要被日本合成橡膠(JSR)、東京應化(TOK)、住友化學、美國杜邦、德國巴斯夫等化工寡頭壟斷。



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